ProSiSt: Leerraumstrukturen erzeugen

Auch im Verbundprojekt ProSiSt versucht man, dem Silicium mehr Raum zum „Atmen” zu geben. Die Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler gehen allerdings etwas anders vor als im Projekt PorSSi. Sie wollen einen Beschichtungsprozess entwickeln, um das Silicium auf die Ableiterfolien aufzutragen. In einem weiteren Schritt wollen sie dann Platz zum „Atmen“ schaffen, indem sie Leerraum-Strukturen wie Gräben per Laser oder Ätzverfahren in die Silicium-Schicht einbringen.

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